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金屬蝕刻-工藝原理
產(chǎn)品設(shè)計高靈活性與快速呈現(xiàn)樣件,材料厚度從1.0mm-0.01mm,適用于銅、鎳、鐵、不銹鋼、鈦等,同時讓沖孔工藝無法實現(xiàn)的精度變?yōu)榭赡?。
01前處理
01前處理

決定蝕刻精度的先決條件:原材料清洗,去除油污、灰塵顆粒,同時能夠選擇性讓原材料表面進行化學(xué)粗化;
02涂布
02涂布

將對紫外線敏感的涂層均勻覆蓋至材料兩側(cè),為蝕刻工藝段對原材料進行選擇性保護;
03曝光
03曝光

通過CAD數(shù)據(jù)設(shè)計光繪菲林膠片,菲林對基材感光涂層進行選擇性遮蔽; 

在紫外線的照射下,未被照射部分涂層分子結(jié)構(gòu)不穩(wěn)定,能被顯影工藝去除掉;

04顯影
04顯影

涂層上未被紫外線照射區(qū)域保護層移除 ;
05蝕刻
05蝕刻

通過蝕刻液溶解沒有保護涂層的基材部分,同時通過對設(shè)備進行控制,能夠形成半蝕刻區(qū)域,這也是沖壓工藝無法實現(xiàn)的,此工藝可以保障99.99%沒有毛刺;
06脫膜與包裝
06脫膜與包裝

脫膜:涂層保護層剝離過程; 

蝕刻產(chǎn)品與原材料基材分離,全檢包裝 。

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