金屬蝕刻-工藝原理
產(chǎn)品設(shè)計高靈活性與快速呈現(xiàn)樣件,材料厚度從1.0mm-0.01mm,適用于銅、鎳、鐵、不銹鋼、鈦等,同時讓沖孔工藝無法實現(xiàn)的精度變?yōu)榭赡?。
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01前處理
決定蝕刻精度的先決條件:原材料清洗,去除油污、灰塵顆粒,同時能夠選擇性讓原材料表面進行化學(xué)粗化;
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02涂布
將對紫外線敏感的涂層均勻覆蓋至材料兩側(cè),為蝕刻工藝段對原材料進行選擇性保護;
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03曝光
通過CAD數(shù)據(jù)設(shè)計光繪菲林膠片,菲林對基材感光涂層進行選擇性遮蔽;
在紫外線的照射下,未被照射部分涂層分子結(jié)構(gòu)不穩(wěn)定,能被顯影工藝去除掉;
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04顯影
涂層上未被紫外線照射區(qū)域保護層移除 ;
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05蝕刻
通過蝕刻液溶解沒有保護涂層的基材部分,同時通過對設(shè)備進行控制,能夠形成半蝕刻區(qū)域,這也是沖壓工藝無法實現(xiàn)的,此工藝可以保障99.99%沒有毛刺;
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06脫膜與包裝
脫膜:涂層保護層剝離過程;
蝕刻產(chǎn)品與原材料基材分離,全檢包裝 。
產(chǎn)品應(yīng)用
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