區(qū)別于光化學(xué)淹沒(méi)，模切工藝能夠?yàn)槲g刻工藝提供其它的遮蔽材料，例如:硅膠保護(hù)膜，易裁切、易排廢、無(wú)殘留，能夠很好的與產(chǎn)品表面結(jié)合從而保護(hù)金屬基材，適用于片式和卷式蝕刻工藝。我們成熟的工藝組合，能夠給您提供更優(yōu)的產(chǎn)品解決方案。
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解決方案
區(qū)別于光化學(xué)掩膜，模切工藝能夠?yàn)槲g刻工藝提供其它的遮蔽材料，例如：硅膠保護(hù)膜，熱解粘膜，光解粘膜等，主要達(dá)到易裁切，易排廢，無(wú)殘留的效果，也適用于片式與卷對(duì)卷蝕刻工藝。我們成熟的工藝組合，能給您提供更優(yōu)的解決方案。
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設(shè)備
應(yīng)對(duì)于蝕刻產(chǎn)品的高精度要求，模切屏蔽材料需要高度精準(zhǔn)，我們投入了萬(wàn)級(jí)無(wú)塵車間與高精度的套位模切設(shè)備，僅±0.03——±0.05mm的公差范圍保證了這項(xiàng)工藝的重要性。
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精確度
模切精確度也來(lái)源于模具的提升，我們的模具采用高硬度的鋼材，使用精雕設(shè)備銑出刀鋒，提高平整度和精確度，為了提供更具成本效益的解決方案，我們一直在探索。
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